Журнал «Молодой ученый»:

Релаксация начальных технологических остаточных напряжений в поверхностном слое КШМ после технологического поверхностного пластического деформирования

№14 (94) июль-2 2015 г.

Авторы: Селифонов Сергей Константинович, Марьина Надежда Леонидовна, Кудашева Ирина Олеговна

Рубрика: Спецвыпуск

Страницы: Т.2. 70-73

Библиографическое описание: Кудашева И. О., Марьина Н. Л., Селифонов С. К. Релаксация начальных технологических остаточных напряжений в поверхностном слое КШМ после технологического поверхностного пластического деформирования // Молодой ученый. — 2015. — №14.2. — С. 70-73.

Объем: 0,18 а.л.

Статус: Опубликована

Текст статьи