Релаксация начальных технологических остаточных напряжений в поверхностном слое КШМ после технологического поверхностного пластического деформирования
Авторы: Кудашева Ирина Олеговна, Марьина Надежда Леонидовна, Селифонов Сергей Константинович
Рубрика: Спецвыпуск
Опубликовано в Молодой учёный №14 (94) июль-2 2015 г.
Дата публикации: 15.07.2015 2015-07-15
Статья просмотрена: 17 раз
Библиографическое описание:
Кудашева, И. О. Релаксация начальных технологических остаточных напряжений в поверхностном слое КШМ после технологического поверхностного пластического деформирования / И. О. Кудашева, Н. Л. Марьина, С. К. Селифонов. — Текст : непосредственный // Молодой ученый. — 2015. — № 14.2 (94.2). — С. 70-73. — URL: https://moluch.ru/archive/94/21125/ (дата обращения: 16.11.2024).
